32纳米:光刻、晶体管技术的变革

由45纳米过渡到32纳米技术节点,除了可能在一些关键的材料方面发生改变,另一个主要的变化是在关键工艺层中采用双重成像光刻技术。何去何从,成本因素和产品需求将起到决定性的作用。