可持续性腔室清洗方案：前道制程的幕后英雄
摘要
经过量产验证的可持续性腔室清洗方案帮助芯片生产商在不断提高产能的同时,降低了由于设备保养而产生的负面影响。
出处
《集成电路应用》
2008年第3期65-66,68,69,共4页
Application of IC
参考文献4
-
1M.R.Czerniak,K Tang,and S.N.Li."Has the Challenge of PFCs Really Been Solved?"[].Semicon-ductor International.2007
-
2X Chen et al."Advances in Remote Plasma Sources for Cleaning300mm and Flat Panel CVD Systems,"[].Semiconductor Magazine.2003
-
3A.Ricca."Heats of Formation for NFn(n=1-3)and NFn+(n=1-3),"[].Chinese Physics Letter.1998
-
4M.J.de Wild-Scholten et al. 22nd European Photovoltaic Solar Energy Conference . 2007
-
1日月光半导体二季度净利润新台币16．7亿元[J].中国集成电路,2009,18(9):4-5.
-
2ST收购GenesiS恐将掀起数字电视芯片市场整并风[J].中国集成电路,2008,17(1):8-8.
-
3黎江.现代电子设备维护问题的分析[J].科技与创新,2014(5):30-31. 被引量：4
-
4何谓融资租赁[J].江苏商业管理干部学院学报,1995(4):18-18.
-
5Andrew Bailey,Leo Archer.采用边缘清洗技术控制边缘缺陷提高成品率[J].集成电路应用,2008,25(10):22-22.
-
6海思半导体成为中国大陆首家产品中集成杜比数字＋的芯片生产商[J].广播电视信息,2011(6):110-111.
-
7Nvidia推新款芯片[J].电子商务,2007,8(10):92-92.
-
8蓝蓝.联迪商用圆满完成奥运任务[J].中国金融电脑,2008(11):87-87.
-
9家和.摩尔定律的幕后英雄[J].百科知识,2003(7):10-11.
-
10David Sachse.中国半导体制造向300mm、先进产品过渡[J].集成电路应用,2007,24(3):71-71.
