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国内首台自主知识产权“光刻机”面世

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摘要 芯硕半导体(中国)有限公司研制成功具有世界领先水平、完全拥有自主知识产权的国内首台直写式“光刻机”。这标志着我国亚微米级光刻机完全依赖进口的局面已被打破。
出处 《军民两用技术与产品》 2008年第1期29-29,共1页 Dual Use Technologies & Products
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