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带有工艺约束的并行多机调度策略 被引量:1

Parallel Machines' Dispatching Problems with Process Constraints
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摘要 针对光刻设备组的生产特点,基于最小化加工时间对其调度问题建立了整数规划数学模型,并提出了一种启发式调度策略。运用Extend仿真软件对传统的FCFS和启发式调度策略分别进行仿真,结果表明,启发式调度策略在减少加工时间和提高设备利用率上皆优于FCFS。 Photolithography area dispatching is a kind of parallel machines' dispatching problems with process constraints. Photolithography is always considered the bottleneck of the wafer fabrication in semiconductor manufacturing. Based on an integer programming model to minimize the total processing time, a heuristics dispatching rule was proposed. Both the FCFS and the heuristics dispatching rule were simulated by Extend software. The result shows that the heuristics dispatching rule is much better than FCFS in processing time reduction and equipment utility improvement.
出处 《工业工程》 2008年第2期62-65,共4页 Industrial Engineering Journal
基金 教育部博士点基金资助项目(20050252008) 上海市重点学科资助项目(T0502)
关键词 光刻区调度 工艺约束 并行多机 Extend仿真 photolithography area dispatching process constraint parallel machines dispatching Extend simulation
  • 相关文献

参考文献15

二级参考文献11

共引文献69

同被引文献4

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引证文献1

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