等离子体浸没离子注入过程中离子质谱测量

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摘要用一个取样离子源－Ｅ×Ｂ质谱系统测定了等离子体浸没离子注入中氮等离子体的质谱，测量出的氮等离子体的离子比率作为计算机模拟ＴＡＭＩＸ程序的输入参数，以预测原子的浓度－深度分布曲线，氮注入的Ｔｉ６Ａｌ４Ｖ样品用扫描俄歇微探针（ＳＡＭ）分析，获得了原子浓度－深度分布的试验数据，理论预测和用俄歇分析的结果比较，显示出很好的一致性．

作者王松雁汤宝寅王小峰田修波魏强曾照明

机构地区哈尔滨工业大学现代焊接生产技术国家实验室

出处《物理》 CAS 1997年第9期558-561,共4页 Physics

基金航空航天工业总公司资助

关键词等离子体浸没离子注入离子质谱材料表面处理

分类号 TG174.442 [金属学及工艺—金属表面处理]

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