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等离子显示屏制作中的曝光技术
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摘要
随着等离子显示屏制作技术的逐渐成熟,光刻技术在等离子显示屏的制作中也越来越重要了。本文论述了在等离子显示屏制作中影响曝光质量的相关因素,从曝光的主要影响因素进行分析阐述,并结合实例进行了分析论证。
作者
田玉民
罗向辉
机构地区
四川世纪双虹显示器件有限公司
北京PDP研发中心
出处
《显示器件技术》
2008年第1期23-27,共5页
关键词
曝光量
间隙
照度
母版
等离子显示屏(PDP)
分类号
TN873.94 [电子电信—信息与通信工程]
TN405.98 [电子电信—微电子学与固体电子学]
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显示器件技术
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