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一种等离子化学气相沉积镀膜方法和设备
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摘要
本发明中等离子化学气相沉积镀膜方法和设备包括:传统的可抽成真空的炉体;将汽化的、含有金属氯化物的和其它工作气体通入所述真空炉体内的装置;放置在真空炉体中的被镀工件与电极阴极相连,将炉体与阳极相连。阳极接地,阴极施加负电压,将电压升高到一定程度后,阴、阳级之间产生辉光等离子场;在所述炉内设置一个能喷出等离子炬的电弧喷枪。电弧喷枪喷出的等离子炬直接进入到辉光等离子场中。
机构地区
北京航空航天大学
出处
《表面技术》
EI
CAS
CSCD
2008年第2期84-84,共1页
Surface Technology
关键词
等离子化学气相沉积
镀膜方法
设备
等离子场
电弧喷枪
等离子炬
金属氯化物
真空炉
分类号
TN304.18 [电子电信—物理电子学]
TP212.1 [自动化与计算机技术—检测技术与自动化装置]
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