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光电所紫外深度光刻机获半导体创新产品和技术奖
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摘要
近日,中国电子专用设备工业协会、中国半导体行业协会、中国电子材料行业协会和《中国电子报》联合举办了2007年度中国半导体创新产品和技术奖评选。中科院光电所研发的URE-2000系列紫外深度光刻机在评选中脱颖而出,获得殊荣。
出处
《光机电信息》
2008年第3期27-27,共1页
OME Information
关键词
创新产品
中国电子专用设备工业协会
半导体
光刻机
技术
紫外
光电
行业协会
分类号
TN405 [电子电信—微电子学与固体电子学]
TN304.23 [电子电信—物理电子学]
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光机电信息
2008年 第3期
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