罗门哈斯与IBM合作开发32和22纳米CMP技术

罗门哈斯公司继与IBM公司签署协议共同开发为32纳米以下制程的注入提供支持的电路图案成形材料和工艺后。近日又宣布与IBM签署了另一项联合开发协定。此项合作将专注于开发用于32纳米和22纳米技术节点的铜线和低绝缘介质集成的CMP工艺技术。根据该协议，两家公司将制定出一个完整的CMP耗材方案来支持32纳米和22纳米制程半导体器件的大规模生产。