摘要
EDA技术是在一定的工艺技术基础上,和一定的设计方法相适应发展起来的。工艺技术水平提高了,EDA技术必须要适应这种状况,跟上工艺技术发展的步伐。1995年深亚微米工艺(0.35μm)开始进入大生产阶段;预计1998年0.25μm工艺亦将进入量产阶段。据专家预测,到2000年销售的IC中按销售额计算,0.8μm以上的产品约占7％,0.5～0.8μm约占45％;0.35～0.5μm的约占42％;0.35μm以下的约占6％。 EDA技术是和一定的设计方法相适应,
出处
《电子产品世界》
1997年第6期25-26,共2页
Electronic Engineering & Product World
