EDA(电子设计自动化)的进展——深亚微米设计对EDA工具的要求

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摘要ＥＤＡ（电子设计自动化）的进展——深亚微米设计对ＥＤＡ工具的要求北京清华大学电子工程系（１０００８４）周祖成１深亚微米设计的特点通常把集成电路制造工艺中栅长小于０．６（ｍ的工艺技术称为深亚微米技术，但是把一种临界尺寸作为区分工艺换代的标志并不能完全反...

作者周祖成

机构地区北京清华大学电子工程系

出处《电子技术应用》北大核心 1997年第10期60-62,共3页 Application of Electronic Technique

关键词 EDA 电子设计自动化深亚微米设计 IC

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电子技术应用

1997年第10期

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