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磁盘预光刻伺服图形离子刻蚀分析
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职称材料
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摘要
用离子溅射对磁盘预光刻的何服图形进行干法刻蚀,得到了微米级和亚微米级凹坑的勾槽图形,这对超高记录密度磁盘驱动器的研究具有重要意义。
作者
罗敢
张彪
库少平
机构地区
华中理工大学
出处
《磁记录材料》
1997年第1期2-4,共3页
Magnetic Recording Materiais
关键词
磁盘
光刻
伺服图形
离子刻蚀
磁记录
分类号
TQ587.2 [化学工程—精细化工]
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磁记录材料
1997年 第1期
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