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一种氧化钛掺钴室温稀磁半导体材料的制备方法
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摘要
本发明提供一种室温铁磁掺钴氧化钛稀磁半导体材料的制备方法,属于新型半导体自旋电子器件材料制备领域。该方法首先将rri氧化物和co氧化物进行混合,采用固相烧结反应法制备Co4Ti1-4O2材料,然后将co小。舶:材料压制成片,在含有氢气的气氛下进行退火处理,退火后的CoaTi。一p:材料具有室温铁磁性。采用本发明制得的室温铁磁.
机构地区
北京大学
出处
《稀有金属快报》
CSCD
2008年第4期6-6,共1页
Rare Metals Letters
关键词
半导体材料
制备方法
氧化钛
室温
掺钴
自旋电子器件
退火处理
铁磁性
分类号
TQ174.758 [化学工程—陶瓷工业]
TN304 [电子电信—物理电子学]
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稀有金属快报
2008年 第4期
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