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0.16微米CMOS工艺技术

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摘要 和舰科技自主创新研发的0.16微米硅片制造工艺技术在原有比较成熟的0.18微米工艺技术基础上,将半导体器件及相关绕线尺寸进行10%微缩(实际尺寸为0.162微米),大大降低了芯片的面积尺寸;且能与现有的0.18微米制造工艺相互兼容,大幅度缩短了新产品达到量产的时间,具有低成本、高效能、高良率、工艺成熟的优点;可以为客户生产更具有技术和价格竞争力的产品,并填补了国内晶圆厂在该领域的空白。同时公司立足于内需巨大的中国市场,拥有一支优秀的技术团队,除了能为客户提供具有低成本、方便快捷供货的优势外,
出处 《中国集成电路》 2008年第5期40-41,共2页 China lntegrated Circuit
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