新型CD-SEM套刻法改进双沟道图形化CDU
被引量：1
摘要
采用一种沟道内置沟道的套刻标记和自动工艺控制策略,双沟道图形化相关的CD均匀性问题可保持在具有量产价值的范围内。
出处
《集成电路应用》
2008年第4期31-33,共3页
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