涂胶／显影系统

RF3T是一款转速可达200wph的涂胶／显影轨道系统，主要用于全程光刻应用。该系统的特征是额外的平行工艺模块以及更高的晶圆周转效率。显影单元已经经过重新规划，可在同样的工艺平台上支持八个显影模块，其显影和清洗工艺能力比先前的系统提高了60％。涂胶分散系统还减少了化学品的消耗。