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Si上生长BSCCO超导薄膜的缓冲层选取及制备 被引量:1

Optimization and Fabrication of Buffer Layers for Depositing BSCCO Superconducting Films on Si Substrates
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摘要 针对Si上生长BSCCO薄膜所出现的问题,通过比较分析几种适合超导薄膜生长的氧化物薄膜衬底后,认为在两者之间选取合适的缓冲层YSZ(Y稳定的ZrO2)可有效减小失配和互反应。详细介绍了磁控溅射YSZ膜的工艺,给出了实验结果。 It is demonstrated that YSZ thin film ic suitable for lessening the mismatches and atom-ic diffusion during the deposition of BSCCO films on Si(100)substrates on the basis of com-paratively analyzing several kinds of oxide thin films which are ideal superconductor sub-strates. The technical parameters of growing YSZ thin films by rf magnetron sputtering are discussed in details, and the experimental results are presented.
作者 胡建华
机构地区 东南大学物理系
出处 《低温与超导》 CAS CSCD 北大核心 1997年第4期30-34,共5页 Cryogenics and Superconductivity
关键词 BSCCO YSZ 溅射 超导薄膜 Si YSZ BSCCO buffer layers sputter
  • 相关文献

参考文献1

  • 1Chang L D,Appl Phys Lett,1992年,60卷,14期,1753页

同被引文献1

引证文献1

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