期刊文献+
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息

空气和氮气气氛中热处理温度对ITO薄膜性能影响 被引量：1

Effects of Annealing Temperature on the Structure of ITO Films Properties When Quenching in Air and N_2
下载PDF
导出
摘要 以InCl_3·4H_2O和SnCl_4·5H_2O为主要原料,采用溶胶-凝胶法和旋转涂膜工艺。在玻璃基片上制备掺锡氧化铟透明导电薄膜(ITO),采用x-射线粉末衍射、紫外-可见透射光谱和四探针技术,研究了在空气和氮气气氛中,不同热处理温度对ITO薄膜的微结构、光学和电学性能的影响。 Using InCl3 · 4H2O and SnCl4 · 5H2O as raw materials, ITO transparent thin films were prepared on common glass substrate by the sol-gel spin-coating process. The effects of heat-treatment temperature on the grain size, optical and electrical properties of ITO thin films were investigated by x - ray diffraction, UV - Vis transmission spectra and fourprobe electrical measurement.
作者 潘洪涛 周炳卿 陈霞 李力猛
机构地区 内蒙古师范大学 物理与电子信息学院
出处 《信息记录材料》 2008年第3期21-24,共4页 Information Recording Materials
基金 国家自然科学基金(50662003) 内蒙古师范大学研究生基金(YJS06045)
关键词 掺锡氧化铟薄膜 X-射线衍射分析 方块电阻 透过率 ITO thin film XRD sheet resistance transmission
分类号 O437 [机械工程—光学工程]
  • 相关文献

参考文献13

  • 1王敏,蒙继龙.透明导电氧化物薄膜的研究进展[J].表面技术,2003,32(1):5-7. 被引量：32
  • 2SUNG K P, JEONG I H, WON K K, et al. Deposition of indium tin-oxide films on polymer substrates for application in plastic-based flat panel displays [ J ]. Thin Solid Films, 2001, 397 (1-2): 49-55.
  • 3GINLEY D S, BRIGHT C. Transparent conducting oxides [J]. MRS Bulletin, 2000, 25 (8): 15- 18.
  • 4ZAHIRUL A, YOSHINORI T, KIMIHIRO S, et al. Properties of indium tin oxide films with indium tin modulation layers prepared by nanoscale controlled reactive magnetron sputtering [J]. Thin Solid Films, 1996, 279(1): 131 - 134.
  • 5TOSHRO M, KUNIHIRO F. Indium tin oxide thin film prepared by chemical vapor deposition [ J ]. Thin Solid Films, 1991, 203 (2): 297-302.
  • 6VASU V, SUBRAHMANYAM A. Reaction kinetics of the formation of indium tin oxide films grown by spray pyrolysis [J]. Thin Solid Films, 1990, 193 (1): 696-703.
  • 7ALAM M J, CAMERON D C. Optical and electrical properties of transparent conductive ITO thin film deposited by sol-gel process [ J ]. Thin Solid Film, 2000, 348 (3) : 455 - 459.
  • 8马颖,张方辉,靳宝安,牟强,袁桃利.ITO透明导电薄膜的制备及光电特性研究[J].液晶与显示,2004,19(5):376-379. 被引量：20
  • 9王敏,蒙继龙.ITO薄膜的电学性能研究[J].广东技术师范学院学报,2004,25(4):72-74. 被引量：5
  • 10S Ghosh, Hyunsoo Kim, Kwangpyo Hong, et al. Microstructure of indium tin oxide films deposited on porous silicon by if-sputtering [ J ]. MaterialsScience and Engineering B, 2002, 9S: 171 -179.

二级参考文献27

  • 1马颖,张方辉,靳宝安,牟强,袁桃利.ITO透明导电薄膜的制备及光电特性研究[J].液晶与显示,2004,19(5):376-379. 被引量：20
  • 2丁星兆,何怡贞,董远达.溶胶－凝胶工艺在材料科学中的应用[J].材料科学与工程,1994,12(2):1-8. 被引量：47
  • 3姜燮昌,胡勇.ITO膜透明导电玻璃的应用前景及工业化生产[J].真空,1995,32(6):1-8. 被引量：25
  • 4钟伯强,俞大畏,潘惠英.用于液晶显示的透明导电膜[J].无机材料学报,1995,10(1):125-128. 被引量：9
  • 5Biai I,Quintela M,Mendes L, et al. Performances exhibited by large area ITO layers produced by R.F.magnetron sputtering[J].Thin Solid Films,1999,337(1-2):171-175.
  • 6Noda Kazuhiro,Sato Hirotoshi,Itaty Hisao, et al. Characterization of Sn-doped In2O3 film on roll-to-roll flexible plastic substrate prepared by DC magnetron sputtering[J].Jpn. J. Appl. Phys.,2003,42(1):217-222.
  • 7Lau S,Kaiser N,Zoller A,et al.Room-temperature deposition of indium tin oxide thin films with plasm aion-assisted evaporation[J].Thin Solid Films,1998,335(1-2):1-5.
  • 8Vink T J,Walrave W,Daams J L C, et al. On the homogeneity of sputter-deposited ITO films(Part Ⅰ)[J].Thin Solids Films,1995,266(2):145-148.
  • 9NODA Kazuhiro, SATO Hirotoshi, ITATY Hisao, et al. Characterization of Sn - doped In2 O3 film on roll - to - roll flexible plastic substrate prepared by DC magnetron sputtering[J]. Jpn. J. Appl. Phys. , 2003,42: 217-222.
  • 10Lau S,Kaiser N,Zoller A, et al. Room-temperature deposition of indium tin oxide thin films with plasm aion-assisted evaporation [J]. Thin Solid Films, 1998,335:1-5.

共引文献56

同被引文献3

引证文献1

信息记录材料
2008年 第3期

相关作者

内容加载中请稍等...

相关机构

内容加载中请稍等...

相关主题

内容加载中请稍等...

浏览历史

内容加载中请稍等...
;
使用帮助 返回顶部