光学应用技术前景广阔

1996年8月4—9日在美国丹佛市会议中心召开了SPIE国际光学工程学会年会。会议主题是:光学科学、工程和仪器。分为13个专题:光技术发展的评论和综述;天文光学和传感器;空间飞船光学仪器;地球观察仪器;数字图像处理;通过大气的成像;大气传感预测;光纤传感器;毫米波和微波光子学;信号与图像处理;光子学中的光学材料;材料工程和诊断学;光学工程。这些内容都是光学科学与技术的重大问题,它们反映了光技术工程化的现实和前景,是光学应用的重要内容和前沿课题。会议代表约3000人,来自45个国家,发表了2517篇论文。我国学者发表105篇论文。现将会议的部分内容简述如下。