示踪阻垢聚合物

示踪阻垢聚合物，合成物示踪并防止或控制垢的形成，标记单位是由式XZC-C-YY’的单体衍生出的。这里的X是氢原子或CI—C4烷基，Y是氢原子或C1-C4烷基，Y’是该分子上的—L-Arom基，这里L是含有杂原子的共价或二价有机连接基．Arom最好是至少由3个共轭芳香环组成的基，上述环是由共轭碳原子以及氮或氧原子组成，并连接到前述碳原子或取代基上。