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化学气相沉积法制备无机分离膜 被引量:1

Preparation of inorganic membranes by chemical vapor deposition
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摘要 介绍化学气相沉积(CVD)法在无机分离膜制备方面的应用,以及近期此研究领域的一些进展. The application of chemical vapor deposition method to the preparation of inorganic membranes is introduced in this paper,some latest developments in this field are discussed also.
出处 《膜科学与技术》 CAS CSCD 1997年第3期19-24,29,共7页 Membrane Science and Technology
关键词 化学气相沉积 无机分离膜 分离膜 chemical vapor deposition inorganic membrane support selectivity permeance
  • 相关文献

参考文献6

  • 1Yan S,Ind Eng Chem Res,1994年,33卷,9期,2096页
  • 2Yan S,Ind Eng Chem Res,1994年,33卷,3期,616页
  • 3Lin Y S,J Membr Sci,1993年,79卷,1期,65页
  • 4麻莳立男,薄膜技术基础,1988年,175页
  • 5沃森,薄膜加工工艺,1987年,251页
  • 6孟广耀,化学气相淀积与无机新材料,1984年,1页

同被引文献12

引证文献1

二级引证文献2

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