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一种PCVD用直流脉冲电源研制

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摘要 提出了一种PCVD炉用新型幅度调制型直流脉冲电源.它包括三相整流滤波电路、IGBT逆变电路、输出整流电路、输出取样电路、辅助电源电路、过流保护电路、高频脉冲发生及反馈控制单元、低频基波发生器电路等.三相整流滤波电路的输入端接外380V交流电源,其输出端经过IGBT逆变电路、输出整流电路到外部表面处理设备;低频基波实现对高频脉冲的幅度调制,取样电路和反馈控制单元完成输出脉冲电流的恒定、电平的钳位,另外低频基波和高频脉冲的频率和占空比均可调,所以它对PCVD、离子氮化炉等设备可提高最佳电源参数,使其表面处理工件的质量和稳定性得到一定幅度提高.
出处 《表面技术》 EI CAS CSCD 1997年第5期6-9,共4页 Surface Technology
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参考文献1

  • 1Shizhi Li,Wu Huang,Hongshun Yang,Zhongshu Wang. Plasma chemical vapor deposition of TiN[J] 1984,Plasma Chemistry and Plasma Processing(3):147~161

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