Co-Ni合金的电沉积及其微观结构的PoSAP分析

脉动直流复合电沉积（Pulsed co-elec-trode position-PCD）是制备纳米晶合金材料的新方法.本文用位置敏感原子探针（Posi-tion Sensitive Atom Probe-PoSAP）,透射电子显微镜（TEM）和X-ray能量分散谱（EDS）研究了PCD法制备的纳米晶Co-Ni磁性合金的微观结构和Co含量与电解液化学成分的关系.根据Co-Ni合金相图,室温下Ni含量小于 27 ％为 hcp结构的εCo固溶体, Ni含量大于 36 ％为 fcc结构的 αCo, Ni含量在 27％～36％之间时为εCo+αCo两相结构.TEMSEM和 X-ray对不同沉积参数样品的观测表明,在电流密度为200A/m2,电解液温度为30℃,脉动直流参数 ton= toff= 0.5 S的条件下可获得平均晶粒尺寸为 70 nm的沉积层(ton为导通时间,toff为截止时间).制备εCo,εCo+ αCo和αCo 3种典型 Co-Ni合金的电解液的化学成分见表 1.纯度 99. 9％,厚 0. 2mm的铜板为阴极,纯度 99.