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氮碳薄膜沉积过程的光谱诊断分析

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摘要 等离子体发射光谱(OES)常用于等离子体薄膜沉积过程中气相物种及化学反应过程的诊断,它有助于对薄膜生长机理、沉积条件、薄膜结构及物性之间关系的了解.到目前为止,仍未见到有关氮碳薄膜反应溅射沉积过程的光谱诊断工作的报道,虽然已对薄膜生长的前驱物,如CN自由基、氮原子等气相物种进行了推测,但仍然缺乏有关的实验结果.从已报道的文献看,氮碳薄膜在物性上存在差异,如纳米显微力学硬度有的高达60GaP,有的只有几个GaP,类似于类金刚石薄膜其物性与碳的sp^3/sp^2键比例密切相关,氮碳薄膜的物性同样也与其多种价键结构类型相关,只是其类型相对要复杂的多,并且可以肯定地说,受沉积参数的影响.因此。
出处 《科学通报》 EI CAS CSCD 北大核心 1997年第20期2157-2160,共4页 Chinese Science Bulletin
基金 国家自然科学基金(批准号:19274068) 北京中关村联合测试中心基金的资助
  • 相关文献

参考文献2

  • 1Zhao J,Chin Phys Lett,1996年,13卷,4期,305页
  • 2Han Hexiang,Solid State Commun,1988年,65卷,9期,921页

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