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光刻工艺面临量测挑战
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摘要
基于国际半导体技术发展路线（ITRS）的预测，如果半导体工业不断提升其产品的复杂度和密集度，那么到2022年，量测技术将面临史无前例的困难和挑战。
作者
Alexander E.Braun
出处
《集成电路应用》
2008年第6期38-39,共2页
Application of IC
关键词
量测技术
工艺面
光刻
半导体技术
半导体工业
密集度
复杂度
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
U452.12 [建筑科学—桥梁与隧道工程]
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集成电路应用
2008年 第6期
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