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KLA—Tencor推出叠对测量新系统Archer200

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摘要 KLA—Tencor公司目前推出最新的叠对测量系统Archer200，搭载强化的光学系统，在32nm节点中协助客户达到两次图形曝（Double—patteming lithography，DPL）所需的高要求，大幅提升性能。

出处《电子工业专用设备》 2008年第6期65-65,共1页 Equipment for Electronic Products Manufacturing

关键词测量系统 KLA 光学系统

分类号 TB9 [机械工程—测试计量技术及仪器] TS272.52 [农业科学—茶叶生产加工]

引文网络
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电子工业专用设备

2008年第6期

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