摘要
半导体晶圆设备供应商Lam Research Corporation日前发布了2300 Versys Kiy03x刻蚀设备，关键尺寸（CD）一致性达到1nm，为双重图样曝光过程所面临的CD及重叠（overlay）挑战提供了解决方案。另外，这套设备还配置有升级选项，灵活经济有效地对高k金属栅极、硬模窗口（hardmask open）、浅沟槽隔离及应变硅等进行刻蚀。
出处
《电子工业专用设备》
2008年第7期71-71,共1页
Equipment for Electronic Products Manufacturing
