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WaferMasters推出表面光度测量系统OSP-300提供非破坏性晶圆表面表征

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摘要 领先的晶圆处理技术及设备供应商WaferMas-ters Inc.近日宣布推出激光光学表面光度系统OSP-300。该系统可提供内嵌式非接触表面轮廓表征,用于各个工艺步骤问,该产品可用于研发和生产。
出处 《电子工业专用设备》 2008年第7期71-71,共1页 Equipment for Electronic Products Manufacturing
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