光刻胶专利信息

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摘要正型光刻胶组合物及形成光刻胶图案的方法;短波成像用溶剂和光刻胶组合物;去除光刻胶和蚀刻残留物的方法;改善蚀刻后光刻胶残余的半导体器件制造方法;处理废弃光刻胶的装置.

出处《精细与专用化学品》 CAS 2008年第15期33-34,共2页 Fine and Specialty Chemicals

关键词光刻胶专利信息半导体器件制造方法组合物残留物蚀刻短波

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精细与专用化学品

2008年第15期

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