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化学镀方法和设备

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摘要 提供了一种化学镀设备。该设备包含了第一层真空吸盘以形成第一层薄膜,以及第二层真空吸盘以形成第二层薄膜,以此在表面形成两层薄膜。设备还包含了液体传输系统,以将镀液传输到第一层薄膜的表层处。在那里,第二层膜层的表层与第一层膜层通过镀液相互接触。也提供对基体进行化学镀镀液。
出处 《电镀与环保》 CAS CSCD 2008年第4期33-33,共1页 Electroplating & Pollution Control
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