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KLA-Tencor推出可解决二次成像挑战的首款计算光刻机
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摘要
KIA-Tencor公司日前推出其领先业界的最新版计算光刻机PROLITH 11。这种新型光刻机让用户首次得以评估当前的二次成像方案,并以较低的成本针对光刻在设计、材料与制程开发等方面挑战,尝试不同的解决方案。这种新型计算光刻机还支持单次成像和浸没技术。
出处
《中国集成电路》
2008年第8期4-4,共1页
China lntegrated Circuit
关键词
二次成像
计算光刻机
浸没技术
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
TP277 [自动化与计算机技术—检测技术与自动化装置]
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中国集成电路
2008年 第8期
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