沙伯基础创新塑料推出新型超纯Stat-Loy复合材料

新一代芯片制造是采用氩氟（ArF）激光技术的光刻工艺，然而，由于防护容器（光罩／掩模板）中使用的塑料尚未普遍达到”洁净”标准．塑料”释气”污染的影响比较严重。如果挥发性有机化合物（VOC）或可滤取离子触及硅片、光罩或掩膜板的表面．则可能会损毁设备或妨碍其功能。而使用高能ArF激光，可能会使晶片和容器更易于受”释气”的影响而损毁。为攻克这一难关，沙伯基础创新塑料的LNP特种复合材料部开发了超纯透明UPT Stat-Loy 63000CT系列复合材料。