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KLA-Tencor推出可解决二次成像挑战的首款计算光刻机
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摘要
KLA-Tencor公司推出其领先业界的最新版计算光刻机PROLITH 11。这种新型光刻机让用户首次得以评估当前的二次成像方案.并以较低的成本针对光刻在设计、材料与制程开发等方面挑战,尝试不同的解决方案。这种新型计算光刻机还支持单次成像和浸没技术。
出处
《电子与电脑》
2008年第8期53-53,共1页
Compotech
关键词
二次成像
光刻机
计算
KLA-Tencor公司
可解
分类号
TP277 [自动化与计算机技术—检测技术与自动化装置]
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
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0
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1
KLA-Tencor推出可解决二次成像挑战的首款计算光刻机[J]
.中国集成电路,2008,17(8):4-4.
2
KLA—Tencor推出PROLITH(TM)X3.1光刻模拟软件[J]
.中国集成电路,2010(3):7-7.
3
KLA-Tencor公司介绍[J]
.电子工业专用设备,2017,0(1):69-72.
4
KLA-Tencor推出最新光罩检测技术[J]
.电子与电脑,2008,8(5):80-80.
5
KLA-Tencor公司收购了ICOS[J]
.激光与光电子学进展,2008,45(4):7-7.
6
王晓峰(编译).
浸没技术拓展光刻尺度[J]
.激光与光电子学进展,2006,43(7):71-71.
7
KLA-Tencor新光罩检测技术可执行多缺陷检测[J]
.电子与电脑,2008,8(10):75-75.
8
KLA-TENCOR推出全新控片检测系统SURFSCAN SP2^(XP) 可加快4X nm以上的芯片生产和3X nm以下的芯片开发[J]
.电子工业专用设备,2008,37(9):75-75.
9
KLA-Tencor将光刻覆盖控制扩展到65nm节点以下[J]
.电子工业专用设备,2005,34(8):68-69.
10
EDA[J]
.电子设计应用,2005(12):143-144.
电子与电脑
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