硒化锌薄膜的射频溅射淀积

描述了射频溅射淀积ZnSe薄膜的研究工作,实验给出了淀积速率与各溅射参数之间的关系曲线,找出了在φ20mm内光学镀层均勺性在98%以上的工艺条件,讨论了影响溅射均匀性的若干因素,并与热蒸发ZnSe薄膜进行比较.证明用溅射法,其淀积的薄膜的填充系数比热蒸发法高。