匀胶减反射铬膜的工艺研究与制造
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1杨民杰,张骥华,孙蓉,卢平芳,陈志强.等离子刻蚀铬膜的研究[J].Journal of Semiconductors,1989,10(9):709-711. 被引量:1
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2杨民杰,张骥华.等离子刻蚀铬膜的研究[J].科技通讯(上海船厂),1989(3):54-57.
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3茅哲民.匀胶减反射铬板的研究与制造[J].上海半导体,1990(3):11-17.
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4王多书,罗崇泰,马勉军,刘宏开,黄良甫.激光直写制作二元光学元件掩模研究[J].应用激光,2004,24(4):213-216. 被引量:5
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5刘宗贺,方雪冰,刘波,凌味未.直流磁控溅射铬膜附着性的影响因素研究[J].实验科学与技术,2006,4(1):31-32. 被引量:2
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6武腾飞,周常河,朱林伟.飞秒激光诱导铬膜产生周期性微结构[J].中国激光,2010,37(3):722-725. 被引量:8
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7张宝,李慧蕊.真空紫外MCP-PMT中应用碘化铯阴极的研究[J].光电子技术,1999,19(1):74-78. 被引量:2
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8王荣.LCD字符模块设计研究与制造[J].微处理机,1994,15(4):10-13.
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9刘瑞兰,杜长英.Fe_2O_3掩膜的制备研究[J].山东师范大学学报(自然科学版),1993,8(2):88-91.
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10牛占纪.频率预选器读数带的工艺研究与制造[J].无线电通信技术,1994,20(5):69-72.
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