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无氰化学镀金

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摘要 概述了以水合肼、硫脲、L-抗坏血酸及其盐为还原剂的化学镀金工艺的镀液组成和条件。具有优良的镀液稳定性和操作安全性,适用于电子元器件和装饰品的化学镀金。
作者 蔡倩
出处 《适用技术市场》 1997年第4期7-8,共2页
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