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镀铑液中铑和其它金属杂质的测定

Determination of rhodium and other metallic impurities in rhodium-plating bath
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摘要 介绍了镀铑液中铑的重量分析法──高纯锌粉还原法与仪器分析方法──电感耦合等离子发射光谱(ICP-AES)。对这2种方法进行了对比,并且给出了ICP-AES法测定镀铑液中的微量铜、镍、铁、锌、铅等杂质的最佳测试条件。2种分析方法都具有准确、重现性好、相对标准偏差小的优点。 The determination of Rh in Rh-plating bath by weighing method - reduction by high-purity Zn powder and instrumental analysis - inductively coupled plasmaatomic emission spectroscopy (ICP-AES) was introduced and compared. The optimal conditions for determining the contents of metallic impurities (such as Cu, Ni, Fe, Zn and Pb) by ICP-AES method were given. Both methods have advantages of accuracy, good reproducibility and low RSD.
出处 《电镀与涂饰》 CAS CSCD 2008年第8期28-29,共2页 Electroplating & Finishing
关键词 镀铑 杂质 测定 重量法 电感耦合等离子发射光谱 rhodium plating impurity determination weighing method ICP-AES
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二级参考文献30

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