有效沉积硬非晶碳膜的新工艺—激光—弧
-
1周兴泰,邹健梧.基片温度对溅射非晶碳膜物理性能的影响[J].薄膜科学与技术,1994,7(2):117-122.
-
2于波.用荷能粒子镀光学薄膜[J].光机电信息,1997,14(8):7-12.
-
3李川.Mo—N薄膜的沉积和性能[J].等离子体应用技术快报,1996(11):20-21.
-
4欣欣.离子束辅助的ZrO2薄膜沉积[J].等离子体应用技术快报,1996(12):15-16.
-
5吴汉.蒸发与冷凝控制[J].自动化与仪器仪表,1990(1):46-48.
-
6江舟.用于薄膜沉积的等离子体同轴放电[J].等离子体应用技术快报,2000(9):23-24.
-
7赵振国.冷却塔及其流体力学问题[J].力学与实践,1990,12(2):1-5. 被引量：3
-
8孙秀魁,徐坚,魏文铎,陈文绣.制备环境清洁度对纳米粒子结晶形态的影响及其控制原理[J].真空,1993,30(5):9-12. 被引量：1
-
9甘德昌.电子和激光照射作为氧化锆薄膜沉积的能源[J].等离子体应用技术快报,1997(2):4-4.
-
10李乐.应用于TiN薄膜沉积的环形等离子体源[J].等离子体应用技术快报,1999(9):8-11.
;
