摘要
介绍在硅ＣＣＤ多路传输器研制中，热壁ＬＰＣＶＤ氮化硅钝化膜的等离子腐蚀及钝化性能。
出处
《电子工业专用设备》
1997年第4期40-43,共4页
Equipment for Electronic Products Manufacturing
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