用于0.25微米器件的关键介质腐蚀的先进“MERIE”工艺技术
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1刘秦,林殷茵,吴小清,张良莹,姚熹.铁电PbZr_(0.53)Ti_(0.47)O_3薄膜的磁增强反应离子刻蚀[J].Journal of Semiconductors,1999,20(11):1044-1048. 被引量：4
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2吴小鹏,陈侃松,顾豪爽,胡宽,熊娟.Pt电极的磁增强反应离子刻蚀的研究[J].电子元件与材料,2008,27(4):62-64. 被引量：1
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3不锈钢是怎样诞生的[J].金川科技,2009(4):29-29.
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4王惟林,刘训春,魏珂,郭晓旭,王润梅.GaAs的ICP选择刻蚀研究[J].功能材料与器件学报,2000,6(3):174-177. 被引量：1
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5张柏顺,全祖赐,郭涛,章天金.BST薄膜的磁增强反应离子刻蚀研究[J].电子元件与材料,2006,25(4):10-13. 被引量：2
