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KLA-Tencor新光罩检测技术可执行多缺陷检测
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摘要
KLA-Tencor公司近日推出最新光罩检测技术,名为晶圆平面光罩检测(Wafer Plane Inspection,WPI)。这款突破性的多功能光罩检测技术,是业界首项可以在单一系统上寻找光罩所有缺陷、并显示可印刷至晶圆缺陷的技术。WPI不但能胜任对良率至关重要的32nm光罩缺陷检测,其运行速度也比先前的检测系统的快40%,
出处
《电子与电脑》
2008年第10期75-75,共1页
Compotech
关键词
缺陷检测
光罩
KLA-Tencor公司
检测技术
单一系统
检测系统
运行速度
多功能
分类号
TP332 [自动化与计算机技术—计算机系统结构]
TN407 [电子电信—微电子学与固体电子学]
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0
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0
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1
KLA-Tencor推出最新光罩检测技术[J]
.电子与电脑,2008,8(5):80-80.
2
突破性的KLA—Tencor技术-通过识别可印刷缺陷实现高等级光罩检测[J]
.电子工业专用设备,2008,37(5):69-70.
3
KLA-Tencor将WPI技术优势推广到所有光罩类型[J]
.电子工业专用设备,2008,37(10):66-67.
4
KLA-Tencor全新掩膜检测系统问世TeraFab家族三款新品齐亮相[J]
.电子工业专用设备,2008,37(2):57-57.
5
KLA-Tencor推出达到45nm晶片几何度量要求的解决方案[J]
.电子工业专用设备,2007,36(12):68-68.
6
KLA-Tencor公司介绍[J]
.电子工业专用设备,2017,0(1):69-72.
7
KLA-Tencor公司收购了ICOS[J]
.激光与光电子学进展,2008,45(4):7-7.
8
梅国平.
SMG在系统互联互通方面的思考[J]
.世界广播电视,2006,20(5):93-93.
9
KLA-TENCOR推出全新控片检测系统SURFSCAN SP2^(XP) 可加快4X nm以上的芯片生产和3X nm以下的芯片开发[J]
.电子工业专用设备,2008,37(9):75-75.
10
KLA-TENCOR推出磁盘驱动器基片和盘片缺陷检查的新技术[J]
.电子工业专用设备,2008,37(10):70-70.
电子与电脑
2008年 第10期
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