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摘要
流体污染过滤器;CMP平台;压印光刻工具;透明膜量测工具;太阳能电池仿真软件.
出处
《集成电路应用》
2008年第9期49-49,共1页
Application of IC
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1张亚军,段玉刚,卢秉恒,王权岱.纳米压印光刻中模版与基片的平行调整方法[J].微细加工技术,2005(2):34-38. 被引量：1
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2魏仁选,姜德生.干涉法测量多层透明膜系反射率[J].仪器仪表学报,2004,25(6):763-765. 被引量：1
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3李洪珠.纳米压印光刻技术及其发展现状[J].电子与封装,2005,5(12):1-5. 被引量：2
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4周佩瑶,徐玉兰.利用双波长光源测量透明膜的厚度[J].首都师范大学学报（自然科学版）,2001,22(4):23-25.
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5安振国,张跃胜.设备可靠运行的保护神——高精过滤技术及其在现代制造业领域的应用[J].现代制造,2005(28):56-58. 被引量：1
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6Michael P.C. Watts.压印光刻引领光子晶体浪潮[J].集成电路应用,2009(6):24-25.
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7陈立峰,卢秉恒.压印光刻中紫外光诱导阻蚀胶固化控制计算[J].光子学报,2007,36(B06):231-234.
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8李保家,周明,张伟.贴膜条件下飞秒激光诱导硅基表面锥状微结构[J].物理学报,2012,61(23):490-497.
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9刘红忠,丁玉成,卢秉恒,王莉.基于分步式压印光刻的激光干涉仪纳米级测量及误差研究[J].光子学报,2006,35(10):1460-1463. 被引量：1
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10上海先进半导体选用ASML光刻工具[J].新材料产业,2003(6):39-39.
