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多晶硅太阳电池PECVD氮化硅钝化工艺的研究 被引量：12

The Si_xN_yH_z Passivation Study of Polycrystalline Silicon Solar Cells by PECVD
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摘要 介绍等离子体化学气相淀积(PECVD)制备减反射钝化膜。将PECVD设备运用于太阳电池生产线上,发现通过PECVD设备可以对多晶硅太阳电池有很好的钝化效果。分析PECVD对多晶硅太阳电池钝化机理。 Introduce antireflection coating and passivation silicon nitride thin films deposited by pecvd. Apply pecvd to the product line of solar cells, and discover the passivation effect by pecvd in polycrystalline silicon solar cells.Analyze the mechanism of polycrystalline silicon solar cells passivated by PECVD.
作者 李军阳 陈特超 禹庆荣
机构地区 中国电子科技集团公司第四十八研究所
出处 《电子工业专用设备》 2008年第10期46-48,共3页 Equipment for Electronic Products Manufacturing
关键词 PECVD 钝化 氮化硅 等离子体增强化学气相淀积 太阳电池 多晶硅 PECVD passivation silicon nitride solar cell polycrystalline silicon
分类号 TK573 [动力工程及工程热物理—热能工程] TN806.9 [电子电信—信息与通信工程]
  • 相关文献

参考文献4

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共引文献15

同被引文献55

引证文献12

二级引证文献28

电子工业专用设备
2008年 第10期

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