Altatech推出新型CVD、ALD设备

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摘要半导体设备商Altatech Semiconductor日前推出化学气相淀积和原子层淀积设备AltaCVD，但未透露其设备售价。

出处《电子工业专用设备》 2008年第10期65-65,共1页 Equipment for Electronic Products Manufacturing

关键词半导体设备 SEMICONDUCTOR CVD ALD 化学气相淀积原子层

1王小平,王丽军,张兵临,何金田,刘大军,沈书泊,王建恩.一种特殊结构的金刚石薄膜电致发光器件[J].物理,1997,26(12):733-735. 被引量：1
2吴光华,赵志坚.CVD：中国数字视频的未来[J].广东电子,1998(9):17-25.
3联合起来把CVD做得更好![J].广东电子,1998(9):4-6.
4翟明磊.CVD无风有浪看纷争[J].广东电子,1998(9):38-41.
5CVD浮出海面[J].电子质量,1998(8):9-10.
6顾致民.优化清除等离子淀积设备电极上淀积物的方法[J].半导体技术,1992,8(1):46-49.
7Linda T. Creagh,Marlene McDonald,William Letendre.平板显示器制造中用作精密淀积设备的喷墨印刷头(英文)[J].电子工业专用设备,2004,33(8):9-14. 被引量：1
8Tegal获得日本晶圆厂900系列蚀刻设备订单[J].电子工业专用设备,2006,35(9):50-50.
9胡浩.钨刻蚀残留的改善[J].中国科技纵横,2014(8):83-84.
10刘洪宁,孙建诚.新型UV—CVD工艺系统的研制[J].电子工业专用设备,1999,28(2):27-29.

电子工业专用设备

2008年第10期

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