摘要
光刻巨头ASML Holding NV（ASML）公司日期推出了创新光刻平台TWINSCAN NXT，套刻精度（overlay）及生产能力（productivity）显著提高，将有力推动半导体制程蓝图的前进。另外，ASML Research Review称，TWINSCAN NXT平台也适用于双图形曝光（double patterning）技术。
出处
《电子工业专用设备》
2008年第10期65-65,共1页
Equipment for Electronic Products Manufacturing
