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SUSS光刻机实现大面积纳米压印光刻

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摘要 SUSS Micro Tec，全球领先的三维、MEMS、先进封装、纳米压印设备供应商，于日前宣布，其手动光刻机，外加一个纳米压印的组件，即可对大面积图形重复进行亚50nm的压印。

出处《电子工业专用设备》 2008年第10期77-77,共1页 Equipment for Electronic Products Manufacturing

关键词纳米压印光刻光刻机面积 MICRO 设备供应商 MEMS TEC 封装

分类号 TN305.93 [电子电信—物理电子学] TN305.7 [电子电信—物理电子学]

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2SUSS MicroTec提高BlueRay^TM探测系统的性能[J].电子技术（上海）,2007,34(4):80-80.
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9国际新闻[J].半导体行业,2008(5):70-71.
10SUSS:以己之长立足市场[J].集成电路应用,2008,25(1):19-19.

电子工业专用设备

2008年第10期

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