罗门哈斯公司推出新的ACuPLANETM铜阻挡层CMP解决方案

罗门哈斯电子材料公司（ROH：Rohm and Haas Electronic Materials）旗下的研磨技术事业部（CMP Technologies）是全球半导体行业化学机械研磨（CMP）技术领域的领导者和创新者。面向高级Cu／low—k材料互连应用产品．该公司新近推出了ACuPIANE^TM铜阻挡层CMP解决方案。ACuPLANE系统将罗门哈斯的EcoVision^TM 4000化学机械研磨垫和ACuPLANE5000系列研磨液结合起来．组成一个可调节的化学机械研磨系统．以满足高级工艺节点的严格要求。