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硅CCD和红外FPA拼接技术的发展

The Development of Si CCD and IRFPA Butting Technology
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摘要 文章综述了可见光硅CCD和红外FPA拼接技术的发展。 In the paper,the development of the Visible light silicon charge coupled devices (Si-CCD)and infrared Focal Plane Array (IRFPA) butting technology are described.
作者 程开富
出处 《激光与红外》 CAS CSCD 北大核心 1997年第3期182-183,共2页 Laser & Infrared
关键词 硅CCD 红外FPA 拼接技术 电荷耦合器件 SiCCD, IRFPA, butting technology
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