抗恶劣环境光盘的结构和温度特性研究

分析了磁光记录技术的发展趋势，研究了磁光盘的结构及溅射工艺，研究成功了宽温（使用温度范围-20～＋60℃、高湿60％～95％RH）抗恶劣环境的磁光盘。