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中芯国际开发出0.11微米CIS工艺技术
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摘要
中芯国际近日宣布成功开发出0.11微米CMOS图像传感器（CIS）工艺技术，在此工艺下生产的CIS器件，其分辨率、暗光噪声和相对照度都将得到增强。
出处
《世界电子元器件》
2008年第11期11-11,共1页
Global Electronics China
关键词
国际开发
CIS
工艺
技术
微米
CMOS图像传感器
相对照度
分辨率
分类号
TP334.22 [自动化与计算机技术—计算机系统结构]
TQ174.758 [化学工程—陶瓷工业]
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世界电子元器件
2008年 第11期
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